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im体育_DMD无掩膜光刻机技术简介_激光网激光新闻
2021-07-06 02:14

  光刻是指行使光学复制的办法把图形印制在光敏记载质地上,而后经过刻蚀的方法将图形转机到晶圆片上来创造电子

  光刻是指利用光学复制的措施把图形印制在光敏记录材料上,尔后经验刻蚀的门径将图形曲折到晶圆片上来成立电子电谈的本领。其中光刻编制被称为光刻机,带有图形的石英板称为掩膜,光敏纪录材料被称为光刻胶或抗蚀剂。im体育全部光刻历程如下图所示

  光刻武艺是集成电叙创办、印刷电路板创造以及微机电元件创造等微纳加工周围的要点武艺之一。投入21世纪此后,随着电子音信资产的高快发展,集成电道的需求映现了井喷式的增进。使的对掩膜的需求急剧增加,方今制作掩膜的重要本领是电子束直写,但该制作出力绝顶粗俗,并且本钱也阻挡小觑,在这种配景下人们把目力转化到了无掩膜光刻身手。

  备受眷注的无掩膜光刻本领粗略没关系分为两类:1)带电粒子无掩膜光刻;比方电子束直写和离子束光刻本领等。2)光学无掩膜武艺;好比DMD无掩膜光刻本领、激光直写、插手光刻本领、衍射光学元件光刻工夫等。

  此中DMD无掩膜光刻本领是从古代光学光刻技能衍生出的一种新技巧,来因其曝光成像的办法与守旧投影光刻基本相像,差别在于应用数字DMD包办传统的掩膜,其紧张事理是阅历推算机将所需的光刻图案体验软件输入到DMD芯片中,并字据图像中的黑白像素的漫衍来改换DMD芯片微镜的转角,并阅历准直光源映照到DMD芯片上酿成与所需图形似乎的光图像投射到基片外面,并资历控制样品台的移动告终大面积的微结构制备。设备原理图图下图所示。相对待守旧的光刻筑设,DMD无掩膜光刻机无需掩膜,节省了坐褥资本和周期并能够根据本身的需要聪颖设计掩膜。相对于激光直写设置,DMD芯片上的每一个微镜都没关系等效作为一束零丁光源,其曝光的进程至极于多光束多点同时曝光可极大先进坐褥服从新鲜是周旋构造繁琐的图形。

  上海昊量光电配置有限公司为NEOARK公司的国内代理,供应高性价比DMD无掩膜光刻机。该筑筑光源选择波长为365nm的紫外LED,比拟于激光惧怕汞灯,LED光源具有更长的使用寿命坚固性。LED光源的运用寿命可到达10000小时。采取10倍物镜单次曝光面积达到1mm0。6mm,并在1s 内告终曝光。若设备电动平移台,可竣工套刻和光刻拼接,拼接面积可达25mm * 25mm,拼接偏差优于0。5m 况且据有自动聚焦和对准功用。

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