MEMS设计加工
IM体育-光刻
2021-06-28 00:00

光刻技术是MEMS技术性里用到最经常,最重要的技术性之一,光刻技术将掩膜图型迁移到衬底表层的光刻技术图型上,依据曝出方法可分成容栅、贴近式和投射式。一般的光刻技术要历经单晶硅片表层清理烘干处理、涂底、旋涂光刻技术、软烘、指向曝出、后烘、显影液、硬烘、离子注入、检验等工艺流程。

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